フッ素系洗浄システム コ・ソルベントシステム

  • 前液にHC,グリコールエーテル等を使用することで加工油、フラックスほとんどの汚れに対応する最適なシステムの選択が可能です。
  • 炭化水素は第3石油類を使用(第2石油類も可)
  • 後液に使用する フッ素系不活性溶剤は表面張力が小さい為、小さな袋穴、小ワークの重なりなど細部まで完璧な濯ぎが可能です。
    また、その力により微細なパーテクルも除去可能です。
  • 水処理が不要です。
  • HC等乾燥コスト削減・VOC対策に最適です。

フッ素系洗浄システム コ・ソルベントシステム イメージ図

フッ素系洗浄システム フローチャート

適応分野

磁気ヘッド・液晶パネル・I Cリードフレーム・精密接点・ベアリングボール・HDD スピンドル・C-MOSセンサー・各種プレス部品・有機ELマスク・水晶振動子・ポリゴンミラー・燃料噴射ポンプ部品・ABS部品・ヒートシンク・プリンター部品 等

加工油、フラックス、水溶性加工油、ワックス

混合系 洗浄剤

フッ素系溶剤にグリコールエーテルをまぜる事によって、洗浄力を高めたものです。この溶剤は脱脂及びフラックス除去に適した洗浄剤です。

フッ素系洗浄システム フローチャート

主な使用溶剤

主な使用溶剤 各企業名 メーカー

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